尼康推出浸潤(rùn)式 ArF 光刻機(jī) NSR-S636E，時(shí)隔二十多年再發(fā)新品
發(fā)布時(shí)間：2023-12-07 14:25:08來源：
12 月 7 日消息，尼康官網(wǎng)宣布新聞稿，發(fā)布推出浸潤(rùn)式 ArF 光刻機(jī)新品 NSR-S636E，將于明年 1 月開售。
從尼康官網(wǎng)參數(shù)表獲悉，NSR-S636E 光刻機(jī)支撐 38nm 以下精度，吞吐量可達(dá) 280 片晶圓 / 小時(shí)。
據(jù)日經(jīng)新聞此前報(bào)道，時(shí)隔二十多年，尼康將于 2024 年投放光刻機(jī)新產(chǎn)品，通過追求逆勢(shì)開辟中國(guó)大陸市場(chǎng)，以實(shí)現(xiàn)卷土重來。
報(bào)道還稱，尼康和佳能曾在 1990 年代之前主導(dǎo)市場(chǎng)，但在最尖端的極紫外（EUV）裝備的開發(fā)競(jìng)爭(zhēng)中敗給了 ASML。極紫外光刻機(jī)在 2010 年后半期適用化，全世界只有 ASML 能夠生產(chǎn)。另一方面，尼康的經(jīng)營(yíng)資源疏散在各種光源上，缺少?gòu)?qiáng)勢(shì)領(lǐng)域。
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