三星計(jì)劃明年生產(chǎn)第9代V-NAND閃存:沿用雙層堆棧架構(gòu),超300層
注:雙層堆棧架構(gòu)指在 300mm 晶圓上生產(chǎn)一個(gè) 3D NAND 堆棧,然后在第一個(gè)堆棧的基礎(chǔ)上建立另一個(gè)堆棧。
而三星即將生產(chǎn)的超 300 層第 9 代 V-NAND 將提高單個(gè)晶圓上生產(chǎn)的存儲密度,這將有利于降低固態(tài)硬盤的成本。
作為競爭對手,SK 海力士的三層堆棧架構(gòu)則是創(chuàng)建三組不同的 3D NAND 層,而這種做法將增加生產(chǎn)步驟和原材料的用量,目的是最大限度提高產(chǎn)量。
另據(jù)《首爾 》報(bào)道,業(yè)界認(rèn)為三星在推出第 9 代 3D NAND 之后,將有望在第 10 代 430 層的 3D NAND 中采取三層堆棧架構(gòu)。該報(bào)援引業(yè)內(nèi)人士稱,若 3D NAND 層數(shù)超過 400,原材料用量和晶圓成本也會水漲船高,同時(shí)也會保證產(chǎn)量。
在去年 10 月舉行的“2023 三星科技日”上,三星曾提出長期愿景:2030 年將層數(shù)提升至 1000 層。
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